小型離子濺射儀庫號(hào)：M389279小型離子濺射儀庫號(hào)：M389279

小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。

主要規(guī)格和技術(shù)指標(biāo)：
1.靶（上部電極）：材料：金，直徑：50mm，厚度：0.1mm　純度：99.999%
2、真空室：直徑：160mm，高：110mm
3.樣品臺(tái)（下部電極）：濺射面積：直徑：50mm
4．工作真空： 8×10-2—2×10-1 mbar
5.離子電流表：電流：50mA
6.數(shù)顯計(jì)丨時(shí)器：根據(jù)濺射習(xí)慣設(shè)定單次濺射時(shí)間。
7.濺射電壓：-1600DVC
8.真空泵（VTD-4）:1.1升/每秒
9.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體
10．針閥： 配有進(jìn)氣口，微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管
11. 外型尺寸：360mm×300mm×380mm

小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。小型離子濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。